磁性材料水浸超声系统

磁性材料水浸超声系统

磁片、磁环等磁性材料内部缺陷分析

详细介绍

主要特点及技术参数:


  • 全水浸/局部水浸
  • A(点/线聚焦),C(横向扫描实时成像)
  • 行程:X×Y×Z=400×300×200mm(可定制)
  • 扫查步长:0.2-5mm可调
  • 根据工件的大小和扫查方式不同,检测效率1-20件/分钟
  • 四通道,采集卡频率范围0.5MHz~25MHz
  • 扫查速度:0-300mm/s
  • 重复定位精度:X/Y轴:±0.1mm/1000mm;Z轴:±0.025mm/300mm
  • 水槽尺寸700×500×300mm
  • 外观尺寸:1300×800×1700mm;不含操作台


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